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光學(xué)膜厚儀OMD-1000的運(yùn)用范圍
典型應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造業(yè),光刻膠、氧化物、硅或其他半導(dǎo)體膜層的厚度測量。
生物醫(yī)學(xué)原件:聚合物/聚對二甲苯;生物膜/球囊壁厚度;植入藥物涂層。
微電子:光刻膠;硅膜;氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡
液晶顯示器:盒厚;聚酰亞胺;導(dǎo)電透明膜
由于是光學(xué)測量,在測量時候無須擔(dān)心破壞樣品,讓用戶簡單快速地測量薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù),通過對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析,幾秒鐘內(nèi)就可測量結(jié)果。
這是一種光譜膜厚監(jiān)測儀,可監(jiān)測在氣相沉積過程中用單色光在基板上產(chǎn)生的光量變化。它也用在我們自己的薄膜沉積設(shè)備中,并作為膜厚監(jiān)測設(shè)備完成,該設(shè)備具有氣相沉積零件制造商的專業(yè)知識。
在傳統(tǒng)型號中,波長選擇是濾光片類型,但是新產(chǎn)品采用了我們公司具有良好記錄的分光鏡,現(xiàn)在可以選擇任何波長。
膜厚變化的信號是從電壓輸出到與個人計算機(jī)兼容的數(shù)字輸出,控制機(jī)構(gòu)是從手動操作到個人計算機(jī)的命令控制。另外,通過將薄膜厚度計主體通過I / F直接連接到個人計算機(jī)來控制其厚度成為可能,這是一個非常緊湊的系統(tǒng),無需像其他制造商那樣的控制器。
模型 | OMD-1000 |
光譜儀類型 | 切爾尼·特納(Czerny Turner)類型單單色 |
波長范圍 | 保證范圍:380至900 nm可操作 范圍:350至1100 nm |
波長分辨率 | 狹縫0.5mm:4.2nm [546nm] 狹縫1.0mm:8.3nm [546nm] |
波長精度 | ±1.0納米 |
最小波長進(jìn)給 | 0.1納米 |
外部控制 | RS232C |
外部輸出端子 | DC0-2V(滿量程) |
采樣間隔 | 100ms以上 |
靜電放電試驗?zāi)碗妷?/font> | ±5kV(實際8kV) |
光源 | 12V100W鹵素?zé)?/font> |
光強(qiáng)度穩(wěn)定性 | ±0.1%/ h以下 |
輸入電壓 | AC100V 50/60赫茲 |
允許輸入電壓 | AC85-132V |
視在功率 | 340VA以下 |
使用環(huán)境 | 溫度10-35℃ 濕度20-80% |